膜分离技术助力硅片研磨废水回用 造福半导体行业
制造半导(dao)体前,必须将(jiang)硅转换(huan)为晶(jing)(jing)圆(yuan)片,晶(jing)(jing)圆(yuan)生产(chan)包括:晶(jing)(jing)棒(bang)成长(zhang)、晶(jing)(jing)棒(bang)裁切与检(jian)测、外径研磨(mo)(mo)、切片、圆(yuan)边(bian)、表层研磨(mo)(mo)、蚀刻(ke)、去(qu)疵(ci)、抛光、清洗及检(jian)验包装工序;研磨(mo)(mo)过程(cheng)之(zhi)后(hou)需采用大(da)量(liang)的(de)超纯水来洗净晶(jing)(jing)圆(yuan)表面所残留的(de)悬浮(fu)微颗粒或(huo)金(jin)属(shu)离子污染物,因而(er)产(chan)生CMP研磨(mo)(mo)废(fei)液及后(hou)段清洗废(fei)水。
传统处(chu)理方(fang)式有诸(zhu)多局限,占(zhan)地(di)大,加药多,污(wu)泥产生量多,水(shui)质不(bu)稳(wen)定。废水(shui)处(chu)理不(bu)当或(huo)直接排(pai)放会(hui)污(wu)染(ran)环(huan)境,处(chu)理水(shui)不(bu)加以(yi)回收(shou)将会(hui)造成(cheng)水(shui)资源(yuan)浪费。
晶(jing)圆(yuan)硅片研磨(mo)或切割液(ye)废水回用(yong)(yong)的(de)(de)处理(li)方法属于(yu)半导体(ti)制造和工业(ye)废水处理(li)技术。目前(qian),膜分离技术广泛运用(yong)(yong)于(yu)废水回用(yong)(yong)领域。基(ji)于(yu)膜的(de)(de)分离性能(neng),一般微滤(lv)和超滤(lv)作为预处理(li)使用(yong)(yong),反渗透和纳滤(lv)对经过预处理(li)后的(de)(de)水进(jin)行更加深入的(de)(de)处理(li)。
膜的(de)联用技术(shu)在废(fei)水(shui)回(hui)用中(zhong)有出(chu)众的(de)处理效果,可以实现高(gao)(gao)效,高(gao)(gao)回(hui)收(shou)(shou)率(lv),高(gao)(gao)品质出(chu)水(shui)的(de)“三高(gao)(gao)”需要。膜分离技术(shu)作(zuo)为新的(de)分离净化和浓(nong)缩方(fang)法,具有无相(xiang)变、能(neng)耗(hao)低、效率(lv)高(gao)(gao)、工(gong)艺简单、操作(zuo)方(fang)便和占地投资小等优点,不仅(jin)可以使废(fei)水(shui)达到排放标准,而(er)且(qie)可以回(hui)收(shou)(shou)部分原材料(liao)、提高(gao)(gao)水(shui)的(de)利用率(lv)。
Neterfo极限分离系统(tong)是专(zhuan)为(wei)废水(shui)处理开发(fa)的(de)膜(mo)深度处理、回用(yong)和还原系统(tong)。系统(tong)采用(yong)PON抗污(wu)染(ran)技(ji)术(shu)和POM宽通(tong)道高架桥旁(pang)路技(ji)术(shu),实现高回收率、低(di)能(neng)(neng)耗(hao)。作为(wei)莱特莱德公司的(de)核心技(ji)术(shu)之一,Neterfo极限分离技(ji)术(shu)可以实现再生水(shui)回用(yong)处理的(de)高回收率和低(di)能(neng)(neng)耗(hao),突破(po)传统(tong)回用(yong)系统(tong)回收率50%的(de)瓶颈,综合回收率可达90%以上(shang)。
从目前的(de)(de)(de)很多(duo)处理方法来看,并没有达(da)到回用的(de)(de)(de)目的(de)(de)(de),只(zhi)是做到了达(da)标(biao)排(pai)放标(biao)准,这造(zao)(zao)成水源的(de)(de)(de)浪费。在社会(hui)经济日(ri)益发(fa)展的(de)(de)(de)情况下,与目前所(suo)倡导(dao)的(de)(de)(de)节(jie)能减排(pai),节(jie)约用水的(de)(de)(de)法律法规大相径庭。膜分离技术(shu)的(de)(de)(de)应用,助力硅片研磨(mo)废水回用,可(ke)造(zao)(zao)福半导(dao)体(ti)行业。
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